【冰質台股】20230601(四)-半導體族群將可能是6月主流，台股收16512點

作者：納蘭雪敏

今天市值百億超過的公司有8478東哥遊艇、1905華紙、5478智冠，

台股則是下跌66點，收盤收在16512點。融資餘額來到1841億元，但一年以來下23.88%，顯示融資相較於一年前的狀況還是不佳，大盤去年16675點比目前的位置還略高一點，顯示一年來以指數來看都還是虧損的。

AI推升台積電(2330)5奈米的產能利用率，3奈米今年將開始量產產能生產，所以半導體下半年的景氣最近蠻多公司都動了起來，2023Q2本來可能還不會落底，但現在看很多法人都調整到Q2落底，Q3起飛，高通、2454聯發科開始導入N3E（enhanced）製程。

台積電的N3E製程是3奈米製程的強化版，提供比N5製程更多的全節點改進，包括性能提升10% ~ 15%，功耗降低25% ~ 30%，邏輯晶體密度提高高達1.7倍。為實現這些改進，N3E製程會使用超過14層的極紫外線（EUV）光刻層，並且將引入深紫外線（DUV）光刻層的新設計規則​。

這裡我要解釋幾個名詞，在半導體技術中，一個"節點"通常代表製程技術的特定版本，通常與其最小特徵尺寸（例如，最小電晶體閘極長度）有關。當我們說"N3E製程會帶來全節點的改進"代表新的製程技術在許多關鍵方面都比先前的技術有所提升，比如功耗、性能、電晶體密度等。

邏輯晶體密度則是在一定面積的晶片上可以擺放的電晶體數量。晶體密度越高，晶片的性能通常越好，因為它可以在同一面積擺放更多的電晶體，算力更高，但增加邏輯晶體密度會引發散熱問題、製程良率等問題，光刻是半導體製程中的一個關鍵步驟，用來在晶片上繪製微小的結構。極紫外線（EUV）光刻是一種新的光刻技術，更短的光波長（約13.5納米），比傳統的深紫外線（DUV）光刻能繪製更小、更密集的結構，N3E製程使用超過14層的EUV光刻層代表使用多次EUV，才可以達到更小電晶體密度達成效能要求。

N3E製程的開發目的主要希望解決N3製程存在的狹窄製程窗口，製程窗口的意思是在機台用不同參數範圍製造時，最終結果仍然能達到要求的範圍，也就是說製程窗口越寬越多機台都能達到同樣的表准產品，狹窄製程窗口會造成產能降低，利潤也降低，所以，台積電開發N3E版本的技術，主要為了擴大製程窗口。

台積電原計劃在N3製程後約一年（2023年Q3）開始使用N3E製程進行大量生產，但近幾個月有傳言說，由於測試生產運行的效果超出預期，台積電可能會提前大約一季度開始使用N3E製程進行大量生產。在最近的一次電話會議中，台積電確認N3E製程的進度超前於計劃，並正在考慮提前大量生產該技術，所以近期台積電搭配上AI題材可能會是6月的主流。

焦點股

代號 名稱 成交 漲跌幅 現金年均殖利率

3293 鈊象 595 4.94 6.59

3624 光頡 66.6 1.52 4.19

1560 中砂 116.5 2.64 3.5

6679 鈺太 310.5 1.47 3.16

3675 德微 313.5 -2.49 1.94

3592 瑞鼎 353 0.71 10.8

4961 天鈺 158.5 -0.31 5.36

6138 茂達 163.5 0.31 5.96

6781 AES-KY 712 0.28 2.56

3374 精材 105 0 2.88

9802 鈺齊-KY 132 4.76 5.55

8150 南茂 40 1.27 6.24

6278 台表科 99.1 -1.88 7.44

2303 聯電 50.8 -1.93 7.21

漲跌歷史

2023/6/1 台股收盤16512.65點，跌66.31點(四)

2023/5/31 台股收盤16578.96點，跌43.78點(三)

2023/5/30 台股收盤16622.74點，跌13.56點(二)

2023/5/29 台股收盤16636.3點，漲131.25點(一)

2023/5/26 台股收盤16505.05點，漲213.05點(五)

2023/5/25 台股收盤16292點，漲132.68點(四)

2023/5/24台股收盤16159點，跌28.71點(三)

2023/5/23台股收盤16188點，漲7.14點(二)

2023/5/22台股收盤16180點，漲5.97點(一)

2023/5/19 台股收盤16174點，漲73點(五)

2023/5/18 台股收盤16101點，漲176點(四)

2023/5/17 台股收盤15925點，漲251點(三)​