東京エレクトロン株式会社，英文代號TEL，是全球僅次於ASML與美國應用材料AMAT的第三大半導體周邊供應商，市佔率日本第一，TEL開發、製造、銷售半導體製造設備和平面顯示器製造設備，也是 TOPIX Core30 唯一一家半導體公司。
2022年，TEL因為索尼、豐田等八家大公司投資成立的Rapidus，以及全球最大半導體製造商台灣台積電建設熊本工廠再次受到關注，TEL原本大部分營收都是海外營收，但隨著日本轉向半導體國內生產，未來日本境內營收希望開始增加。
TEL開發的塗佈機/顯影機，全球市場佔有率高達90%（EUV曝光塗布接近100%），是一家對全球半導體趨勢有相當影響力的公司，美國拜登政府正在強調日本、荷蘭、美國半導體聯盟的重要性，荷蘭ASML和日本東京電子正被美國拜登政府強迫在針對中國的監管方面合
作。
我們要先瞭解TEL在半導體製程的重要性必須先瞭解半導體製程：
晶圓清潔與準備 (Wafer Cleaning and Preparation)：
步驟內容：清潔晶圓以確保表面無污染物。
主要供應商：Lam Research, TEL (Tokyo Electron)
塗佈感光材料（光阻劑）(Photoresist Coating)：
步驟內容：將感光材料均勻地塗佈在晶圓表面，這個過程通常是由塗佈顯影設備（如東京電子的設備）完成。
主要供應商：TEL (Tokyo Electron), Applied Materials
軟烘烤 (Soft Bake)：
步驟內容：晶圓會進行一次軟烘烤以去除多餘的溶劑，並使光阻劑層固化。
主要供應商：TEL (Tokyo Electron), SCREEN Semiconductor Solutions
EUV曝光 (EUV Exposure)：
步驟內容：晶圓被送入EUV光刻機進行曝光，EUV光刻機使用極紫外光源透過光罩（mask）將電路圖案精確地投影到感光材料上。
主要供應商：ASML
顯影 (Developing)：
步驟內容：曝光後的晶圓會被浸入顯影溶液中，將曝光後發生化學變化的感光材料去除，留下所需的電路圖案。
主要供應商：TEL (Tokyo Electron), SCREEN Semiconductor Solutions
硬烘烤 (Hard Bake)：
步驟內容：顯影後，晶圓進行硬烘烤以進一步穩定和固化光阻劑層，確保圖案的穩定性。
主要供應商：TEL (Tokyo Electron), SCREEN Semiconductor Solutions
刻蝕 (Etching)：
步驟內容：使用乾式或濕式刻蝕技術去除未被光阻劑覆蓋的材料，將電路圖案轉移到下層的材料中。
主要供應商：Lam Research, Applied Materials, TEL (Tokyo Electron)
光阻劑去除 (Photoresist Removal)：
步驟內容：刻蝕後，使用化學溶劑或等離子清洗去除光阻劑層。
主要供應商：Lam Research, Applied Materials
清潔 (Cleaning)：
步驟內容：再一次清潔晶圓以去除任何殘留的污染物，準備進行下一步製程。
主要供應商：Lam Research, TEL (Tokyo Electron)
檢測和量測 (Inspection and Metrology)：
步驟內容：檢查和量測電路圖案的精度和完整性，確保符合設計規範。
主要供應商：KLA, ASML, Applied Materials
上面這些供應商主要都是由ASML與美國的Applied Materials(股票代號：AMAT)和Lam Research(股票代號：LRCX)和KLA科磊（股票代號:KLAC）以及日本的東京電子Tel(8035)、斯庫林SCREEN Semiconductor Solutions(7735)。
在這裡面東京電子（Tokyo Electron，TEL）在塗佈和顯影設備（coater/developer）領域的市場佔有率位居世界第一，設備可以將感光材料（光阻劑）均勻塗佈在晶圓表面，並在曝光後顯影出電路圖案，東京電子的塗佈機可以提供高精度、高均勻性的塗佈，確保光阻劑層的品質和厚度一致，對於EUV光刻技術的成功應用非常重要，顯影設備也能夠精確控制顯影過程，確保電路圖案的清晰度和準確性。
可以參考以下影片：
東京電子主要就是以Coating和developing兩大製程為主。
1963年11月當時東京放送，原為東京電台，成立東京電子研究所。
1978年10月東京電子研究所更名為東京電子。
2013年9月當時獲得美國應用材料收購邀約。
2015年4月應用材料與東京電子表示將取消併購計畫，因為美國司法部不允許。
目前的CEO是河合利樹(Toshiki Kawai)，他在1986年就進入TEL，臺灣目前的東京威力科創是Tokyo Electron(TEL)的台灣子公司，成立於1996年，在新竹科學園區設立總部，並於北中南各地設置辦公室，將半導體製造設備的高科技服務在地深耕。
東京威力科創總裁張天豪表示：「我們非常重視台灣的客戶，並致力提供確實可靠服務，我們除了成立台灣技術中心、台灣訓練中心，更預計在2024年底啟用台南營運中心，我們預期，半導體製造設備市場將邁向兩年累計2000億美元的規模。東京威力科創早已做足準備。」
東京威力科創總裁張天豪說近期大家常提到的EUV曝光機，但晶圓製程中還有很重要的設備塗布顯影設備，TEL在這領域有將近100%市占率，也有很多全球獨一無二的技術，他提到，首先是極低溫蝕刻技術，能利用極低的溫度，提高高深寬比蝕刻的速度及精確度；以及雷射晶邊修整系統，大量減少純淨水的使用及粉塵、廢水的排放達70%。
2024年7月23日臺灣新竹科學園區36歲工程師一案為東京威力科創旗下主管。
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